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[设备介绍] 电子束蒸发设备

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发表于 2014-1-29 09:42:09 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 greedisgood 于 2014-1-29 09:44 编辑

光学镀膜机
20100910075838nopic.gif
               
编号: OTFC-900 (SN200909047)                 
工艺类别: 镀膜                 
所属单位: 加工平台                 
管理员: 杨磊                 
状态: 正常                 
价格:500/30分钟                 
单位预约时间: 30(单位:分钟)                 
用途                 
光学薄膜泛指在器件表面用物理化学等方法沉积,利用光的干涉现象以实现增透、高反射、滤光、分光等光学现象。
例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小;采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高;利用光学薄膜可提高太阳能电池的效率和稳定性。
主要用于光学增透膜、高反膜、ITO、截止滤光片等光学薄膜蒸镀。
配备两把电子枪和射频等离子体辅助源,一次可蒸镀六寸片6片,两寸片30片,薄膜不均匀性≤±5%                 
主要技术指标                 
真空配置:真空系统采用干泵+冷凝泵
光学膜厚仪监控波长范围:350-1100nm
波長精度:<±1nm, 配置射频辅助等离子源,离子流密度分布均匀
装片:6片六英寸衬底,或6片四英寸,30片两英寸衬底。
基底最高加热温度:350℃。
极限真空:低于5.0E-5Pa  恢复真空:15分钟之内达到8.0E-4Pa
目前可淀积材料包括:SiO2、MgF2、OS50、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3
蒸发速率0.5A/s-5A/s,蒸发功率0-40%
工作真空:1E-3Pa,温度20-350度,气体(Ar、O2),蒸发料(SiO2、TiO2、Ta2O5、ZrO2、MgF2、ZnS、OS50、ITO等)。


电子束蒸发 Ei-5z
20100910075208电子束蒸发.jpg                
编号:Ei-5z (SN200812038)                 
工艺类别: 镀膜                 
所属单位: 加工平台                 
管理员: 周丽萍                 
状态: 正常                 
价格:300/30分钟                 
单位预约时间: 30(单位:分钟)                 
用途                 
主要用于蒸发Ti、Al、Ni、Au、AuGe、Cr、Pt等金属薄膜,蒸发速率0.1A/s-20A/s可调,最大蒸发厚度可至2000nm。
一次可蒸镀两寸片180片,四寸片和六寸片8片,向下尺寸兼容,薄膜不均匀性≤±5%。 最少1.5小时起预约。
由于加班时无人员轮换,每日18:00-19:00时为加班人员短暂休息和用餐时间,涉及到贵重金属的使用,工艺时需有工作人员在场,非工艺特别赶的情况,请尽量避开预约此段时间。                 
主要技术指标                 
"蒸发速率0.1A/s-20A/s,预蒸发功率10%-45%,蒸发功率0-60%
蒸发厚度:普通金属(Ni、Al、Ti)5nm-2000nm,贵重金属(Au、AuGe)5nm-500nm;
工作真空:5E-4Pa,温度:20-300℃
*有挥发性物体严禁进入腔室。
*如需使用除硅片、蓝宝石、玻璃片以外的衬底进行该工艺,请联系设备负责人。
*三层及三层以内金属总厚度在350nm以内,1.5小时起预约。三层以内金属总厚度超出350nm和三层以上金属,2小时起预约。
*预约工艺请选择工艺所需金属及厚度,填写金属及厚度需真实,由于客户填写金属及厚度与实际工艺金属及厚度有误,工艺员有权取消该次工艺,由此产生的费用有客户自己承担。如填写该工艺的金属及厚度有疑问,请联系设备负责人。


电子束蒸发(Cooke)
2013041809520345476c87gw1e3axhdd4vtj.jpg                
编号: COOKE                 
工艺类别:镀膜                 
所属单位: 加工平台                 
管理员:周丽萍                 
状态: 正常                 
价格:225/30分钟                 
单位预约时间: 30(单位:分钟)                 
用途                 
主要用于蒸发Ti、Al、Ni、Cr等金属薄膜,蒸发速率0.1A/s-20A/s可调,最大蒸发厚度可至2000nm。
一次可蒸镀两寸片38片,四寸片和六寸片5片,向下尺寸兼容,薄膜不均匀性≤±5%                 
主要技术指标                 
"蒸发速率0.1A/s-20A/s,预蒸发功率10%-45%,蒸发功率0-60%,
蒸发厚度:普通金属(Ni、Al、Ti)5nm-2000nm;工作真空:5E-6Torr,温度:常温(暂时)


电子束蒸发(国产)
2013041809535445476c87gw1e3axhdd4vtj.jpg                  
编号: EBE-09                 
工艺类别:镀膜                 
所属单位: 加工平台                 
管理员: 钟凡                 
状态: 正常                 
价格: 140/30分钟                 
单位预约时间: 30(单位:分钟)                 
用途                 
主要用于蒸发Ti、Al、Ni、Ag、Au等金属薄膜,蒸发速率0.1A/s-20A/s可调,最大蒸发厚度可至2000nm。
一次可蒸镀两寸片3片,四寸1片,向下尺寸兼容,薄膜不均匀性≤±5% 1.5小时起约!                 
主要技术指标                 
"蒸发速率0.1A/s-20A/s,预蒸发功率10%-45%,蒸发功率0-50%
蒸发厚度:普通金属(Ni、Al、Ti、Ag)5nm-2000nm;工作真空:5E-4Pa,温度:300℃。

点评

海!外直播 t.cn/RxlBL8D 禁闻视频 t.cn/RJ7gaCv 当你孩子失学时,国家不见了;当你看不起病时,国家不见了;当你讨要血汗钱时,国家不见了;当你举牌示!威讨要血汗钱的时候,国家出现了,这赵国“国家”真面目到底是什么.  发表于 2018-10-27 10:24
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发表于 2014-3-26 18:43:47 | 显示全部楼层
Ei-5z可以同时蒸发多片,既适于研发,又适于小批量生产。
发表于 2014-4-2 15:38:12 | 显示全部楼层
关于金属沉积,选择合适的设备既能满足工艺需求又能节约工艺费用。
具体工艺情况,欢迎咨询。
发表于 2014-4-25 10:14:03 | 显示全部楼层
就是有点贵。。。
发表于 2017-3-20 12:03:36 | 显示全部楼层
老师,您好,我是北京众诚新材的蒋立志,公司是专业生产磁控溅射靶材和蒸发镀膜材料的,希望能有机会让您能试一下我们做的,多一个参考和对比,谢谢您。
发表于 2018-11-8 10:43:21 | 显示全部楼层
请问光学镀膜机OTFC-900如何预约?
发表于 2018-11-12 10:53:46 | 显示全部楼层
老师,您好,我是沈阳创镕金属材料的刘经理,我家工厂是是加工,金银铂钯,贵金属靶材的,如有需求,微信:LCL2849088 QQ:1633448712 刘经理,期待与您的合作!
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