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[光刻设备] 6英寸双面对准光刻机

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发表于 2014-2-6 10:02:24 | 显示全部楼层 |阅读模式
6英寸双面对准光刻机 (1楼)
201009100626176英寸双面对准光刻机.jpg                  
编号:MA6/BA6 (SN200810036)                 
工艺类别:光刻                 
所属单位: 加工平台                 
管理员:王德稳                 
状态: 正常                 
价格:400/30分钟                 
单位预约时间:30(单位:分钟)                 
用途                 
宽带光源,紫外接近,接触式光刻,可实现双面对准。
最大曝光面积?φ150mm。分辨率:2μm。套刻精度:±1μm。
注意:12:00前预约2寸或者2寸以下的小片工艺(片子大于10mm*10mm),12:00后预约2、3、4、6整片工艺
工艺参数填写完整:片子大小、光刻胶类型,如未填写,审核时不予以通过!                  
主要技术指标                 
样品大小: 1、标准片(φ2/4/6英寸);2、小片(<2寸大于10mm*10mm);3、晶圆厚度<3mm。
光刻胶类型: 1、AZ5214(厚度1.6~2.5μm,可反转); 2、AZ6112(1.0~2.0μm,正胶); 3、AZ4620(厚度8~30μm,正胶); 4、双层(底层LOR10A,20B,30B);
分辨率要求:1、大于1μm 2、小于1μm。 对准要求:1、大于±1μm 2、小于±1μm。


MA6紫外光刻机(2楼)
201302270607391.jpg                
编号:MA6 (SN201208226)                 
工艺类别:光刻                 
所属单位:加工平台                 
管理员:王德稳               
状态: 正常                 
价格:250/30分钟                 
单位预约时间:30(单位:分钟)                 
用途                 
宽带光源,紫外接近,接触式光刻,可实现双面对准。
最大曝光面积:φ150mm。分辨率:2μm。套刻精度:±1μm。                 
主要技术指标                 
样品大小:   1、标准片(φ2/4/6英寸);2、小片(大于10×10mm小于2寸);3、其它;4、晶元厚度小于3mm。
光刻胶类型: 1、AZ5214(厚度1.6~2.5μm,可反转);2、AZ6112(1.0~2.0μm,正胶);3、AZ4620(厚度8~30μm,正             胶);4、双层(底层LOR10A,20B,30B);5、其他
分辨率要求: 1、大于1μm 2、小于1μm。 对准要求:   1、大 于±1μm 2、小于±1μm。
注意:12:00前预约2、3、4、6整片工艺,12:00预约2寸或者小片工艺(片子大于10mm*10mm)





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发表于 2014-3-26 19:01:28 | 显示全部楼层
精度很高,我们最小做到过1.5μm线宽以及0.1μm的对准偏差。
双面对准以及键合前对准也是该设备的特色。
发表于 2014-3-27 14:50:05 | 显示全部楼层
楼上的是来替打广告的吧
发表于 2014-4-25 10:10:45 | 显示全部楼层
MEMS双面对准常用设备。
[发帖际遇]: 飞天玉虎 在论坛发帖时没有注意,被小偷偷去了 1 微纳币. 幸运榜 / 衰神榜
发表于 2014-5-5 13:01:30 | 显示全部楼层
详情拨打0512-62872500
发表于 2014-5-6 11:59:47 | 显示全部楼层
亮哥哥 发表于 2014-5-5 13:01
详情拨打0512-62872500

小心电话被打爆哦
发表于 2014-5-6 12:36:31 | 显示全部楼层
wonder_02 发表于 2014-5-6 11:59
小心电话被打爆哦

不打,你怎能去体会我们的热情
发表于 2015-6-4 16:23:10 | 显示全部楼层
SUPER無間道 发表于 2014-3-26 19:01
精度很高,我们最小做到过1.5μm线宽以及0.1μm的对准偏差。
双面对准以及键合前对准也是该设备的特色。

正面达到这个精度把。也不容易了,还要求片子没有太大的变形
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