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[光刻设备] 电子束光刻机

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发表于 2014-2-6 10:16:21 | 显示全部楼层 |阅读模式
电子束光刻机
201302270601281.jpg                  
编号:JBX5500ZA (SN200812039)                 
工艺类别:光刻                 
所属单位:加工平台                 
管理员: 侯克玉                 
状态: 正常                 
价格:800/60分钟                 
单位预约时间:60(单位:分钟)                 
用途                 
电子束曝光是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的,与光学曝光对应,其特点是将聚焦电子束代替光照以实现抗蚀剂(光刻胶)的曝光(改性)。
在实验室广泛应用的电子束曝光机为矢量扫描高斯型系统,即:电子束斑为高斯线型,工作时采用矢量扫描方式。
电子束曝光无需掩膜,可实现低至10nm线宽图形,是目前纳米技术研究中非常重要的纳米图形生成手段。                  
主要技术指标                 
请客户自行计算曝光时间,以此为依据预约时间。
曝光时间计算公式:曝光时间=曝光面积*曝光剂量/束流大小(束流大小一般为100PA)
Accelerating voltage: 25/50 kV
Minimum line width: 10 nm (50 kV/5th)
Overlay Accuracy: 40 nm  
Field stitching Accuracy: 40 nm  
Exposure range: 直径75 mm
Scan speed:12 MHz to 250 Hz

点评

海!外直播 t.cn/RxlBL8D 禁闻视频 t.cn/Rxl1r56 谷歌:我创业15年。百度:我也创业15年。谷歌:大家用我测试能否翻墙。百度:大家用我测试能否上网。谷歌:我一直在突破人类极限。百度:我一直在突破人类底线...  发表于 2018-10-27 10:28
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发表于 2014-4-21 12:27:33 | 显示全部楼层
电子束住的单间就是霸气
发表于 2016-12-12 11:22:27 | 显示全部楼层



这个对光刻胶有什么要求?能刻蚀一定深度吗?50nm圆柱,间隔80nm规则排列能实现吗?
发表于 2016-12-13 08:29:04 | 显示全部楼层
小我的蓝色 发表于 2016-12-12 11:22
这个对光刻胶有什么要求?能刻蚀一定深度吗?50nm圆柱,间隔80nm规则排列能实现吗?

打2500问问
发表于 2016-12-13 09:44:26 | 显示全部楼层

麻烦说下完整的电话,前面我不知道
发表于 2016-12-13 14:59:37 | 显示全部楼层
是我们的客户一般知道全号,不是的就只能呵呵了
发表于 2019-7-15 13:53:53 | 显示全部楼层
请问,lift off,中心小结构剥离不掉,一整片金属都在上面,是什么原因导致的

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