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[光刻设备] 近场光刻

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发表于 2014-2-6 10:34:27 | 显示全部楼层 |阅读模式
近场光刻
    201302270609451.jpg             
编号:MA6                  
工艺类别:光刻                 
所属单位:加工平台                 
管理员:王德稳      
状态:正常                 
价格:250/30分钟                 
单位预约时间: 30(单位:分钟)                 
用途                 
365nm宽带光源,接触式光刻,主要用以线条>1μm的样品的曝光。                 
主要技术指标                 
样品大小:  1、标准片(φ2/4/6英寸); 2、小片(<100×100mm)。
分辨率: >1μm 套刻精度:2μm


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