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[光刻设备] STEPPER

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发表于 2014-2-6 10:20:57 | 显示全部楼层 |阅读模式
STEPPER
201302270551241.jpg
                 
编号:NSR (SN200910049)                 
工艺类别:光刻
所属单位:加工平台                 
管理员:王德稳                 
状态:正常                 
价格: 600/30分钟                 
单位预约时间:30(单位:分钟)                 
用途                 
把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上,分区域进行步进式曝光。
本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光,曝光精度可达500nm。                  
主要技术指标                 
RESOLUTION:0.5μm LENS DISTORTION:≤0.9μm
RETICLE ALIGNMENT ACCURACY:≤0.02μm STEPPING ACCURACY:≤0.08μm  
OVERLAY ACCURACY:≤0.15μm(X,Y)
OPEN FLAME(MAX. EXPOSURE AREA):17.5×17.5mm

点评

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