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[设备介绍] 深硅刻蚀(STS HRM)

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发表于 2014-2-7 10:03:17 | 显示全部楼层 |阅读模式
深硅刻蚀(STS HRM)
20100910060723深硅ICP.jpg                  
编号:STS HRM (SN201005025)                 
工艺类别:刻蚀                 
所属单位:加工平台                 
管理员:刘彬                 
状态:正常                 
价格:450/30分钟                 
单位预约时间: 30(单位:分钟)                 
用途                 
主要用于硅材料的高速,深度,大深宽比刻蚀。适用于六寸片及以下尺寸。刻蚀均匀性<±5%。                 
主要技术指标                 
温度:0-80度, 侧壁垂直度:89°±1°。
工艺气体:He,SF6,C4F8,O2,Ar。
ICP功率:0-3000W,RF功率:0-1000W

点评

海!外直播 t.cn/RxlBL8F 禁闻视频 t.cn/RxlbueK 据说赵国官员有十个特点:1.工资不高,存款不少;2.外语不懂,出国不少;3.老婆不碰,房事不少;4.上班不多,应酬不少;5.讲话不精,掌声不少;6.本事不大,头衔不少   发表于 2018-11-3 17:56
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发表于 2015-4-22 11:37:13 | 显示全部楼层
SUPER無間道 发表于 2014-3-26 18:46
该设备针对不同线宽和刻蚀深度,有不同的刻蚀程序可供选择,有Bosch和No Bosch工艺。

你好,能否刻200微米深,6微米宽的孔或者沟槽?谢谢你。
发表于 2014-3-26 18:46:27 | 显示全部楼层
本帖最后由 wonder_02 于 2014-3-26 18:47 编辑

该设备针对不同线宽和刻蚀深度,有不同的刻蚀程序可供选择,有Bosch和No Bosch工艺。
发表于 2015-4-22 17:01:52 | 显示全部楼层
kongchau 发表于 2015-4-22 11:37
你好,能否刻200微米深,6微米宽的孔或者沟槽?谢谢你。

深宽比太大,有难度
发表于 2017-10-10 11:21:25 | 显示全部楼层
请问样片15mm正方形可以进行深硅刻蚀么?
发表于 2017-10-10 11:22:42 | 显示全部楼层
还有个问题。130nm直径220nm深可以刻蚀成功么?另外误差大概是多少?
发表于 2017-10-10 17:07:34 | 显示全部楼层
wheat0819 发表于 2017-10-10 11:21
请问样片15mm正方形可以进行深硅刻蚀么?

这个尺寸没问题
发表于 2017-10-10 17:08:30 | 显示全部楼层
wheat0819 发表于 2017-10-10 11:22
还有个问题。130nm直径220nm深可以刻蚀成功么?另外误差大概是多少?

这种尺寸深度,sts不适合,建议尝试其他设备 如 RIE ,oxford80
[发帖际遇]: 莲动下渔舟 乐于助人,奖励 2 微纳币. 幸运榜 / 衰神榜
发表于 2017-10-26 23:54:15 | 显示全部楼层
您好,如何联系您,要做硅板的干法刻蚀(0.5~2um的微柱,0.5~2um的微坑,10~50um的凹槽)
发表于 2017-10-26 23:55:18 | 显示全部楼层
dy小火 发表于 2017-10-26 23:54
您好,如何联系您,要做硅板的干法刻蚀(0.5~2um的微柱,0.5~2um的微坑,10~50um的凹槽)

如果您这里可以做 麻烦给我个电话15825318630,谢谢
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