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电子束曝光中电荷积累的影响及校正

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发表于 2014-2-25 12:20:47 | 显示全部楼层 |阅读模式
    电子束曝光是电子束辐照到衬底上,和衬底碰撞形成二次电子,然后二次电子再和衬底上的电子束光刻胶发生反应,从而制作出我们想要的图形,最后,电子经由衬底导出,所以,衬底材料必须是导体或者半导体,否则电子传导不出去会形成电荷积累,从而对曝光产生影响。

   file:///C:\DOCUME~1\ThinkPad\LOCALS~1\Temp\ksohtml\wps_clip_image-2958.png
file:///C:\DOCUME~1\ThinkPad\LOCALS~1\Temp\ksohtml\wps_clip_image-29833.png如图一所示,当电子打到不导电衬底表面后,有于衬底表面导电性不好,电子不能及时的输运出去,会在彻底表面形成电荷积累,当积累到一定程度后会在衬底表面附近形成一个电场,会对后面打下来的电子形成排斥作用,使电子不能够打到我们所设定的位置,从而使我们所曝光得到的图形变形,形成拼接上的误差。如图三(1)所示。
消除电荷积聚从根本来说就是使得电子能够从不导电衬底上顺利的传导出去,目前最常用的方法主要有两种:一是,在衬底上镀层金属;二是,在涂完电子束光刻胶后再涂一层导电胶。如图二所示。图三为消除电荷积聚后的图形。

图一

图一

图二

图二

图三

图三
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发表于 2014-2-25 16:28:09 | 显示全部楼层
导电胶有哪些?
发表于 2014-2-27 22:09:23 | 显示全部楼层
导电胶用去除吗?
发表于 2014-3-3 10:30:57 | 显示全部楼层
很有用的说
发表于 2014-3-3 17:21:43 | 显示全部楼层
够专业,学习学习
发表于 2014-3-5 10:07:00 | 显示全部楼层
有图有真相啊,很好的技术贴,收藏了
发表于 2014-3-7 10:15:09 | 显示全部楼层
问一下,你们那电子束光刻最小线宽可以做到多少?
发表于 2014-3-27 14:42:38 | 显示全部楼层
太贵了,非高富帅消费得起啊。。。
 楼主| 发表于 2014-3-28 11:30:52 | 显示全部楼层
semdg 发表于 2014-3-7 10:15
问一下,你们那电子束光刻最小线宽可以做到多少?

最小线宽受各种因素影响,比如说衬底材料,衬底导电性,曝光环境等等,理想状态下最小线宽可达10nm。
发表于 2014-12-30 10:25:18 | 显示全部楼层
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