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查看: 5405|回复: 8

光刻图形数据格式

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发表于 2014-3-4 14:59:09 | 显示全部楼层 |阅读模式
在光刻工艺中,不管是掩膜版的图案,还是电子束曝光图形,都需要事先经过软件进行设计,然后导入到相应的设备中,由设备识别后将相应的图形转移到掩膜版上或者是目标基片上,目前此类设备能够识别的图案基本为GDSII、CIF和DXF。这几种图形格式各有优缺点,具体如下说明。
GDSII(Graphic Database System II)最高由Calma公司开发用于设计晶圆加工的版图设计,后被Cadence公司收购。GDS文件通过二进制编码来表示平面的几何图形、文字,以及图形的图层和属性等数据。每个图层都可以进行独立命名,且每个图层的都属性都可以进行特殊标定,是一种功能较强的数据格式,由于适合在电子束曝光时,对各个区域的曝光计量进行分别设定。
Cif(Caltech Intermediate Form)也是一种常见的集成电路图形文件类型,相比与GDSII来说,cif最大的有点是格式为ASCII格式,可以直接进行编辑和读取。但是其无法对每一个图形进行任意命名,也无法单独设定每个图形的属性。
DXF格式(DrawingInterchange Format)是由AutoCAD公司开发的数据格式,由于该公司在业界的实际影响力,DXF文件格式已经成为矢量图的一个标准,很多软件都提供了DXF软件的读取和输出功能。通过AutoCAD软件可以设计出其他软件所无法实现的各种复杂的图形,但是目前DXF文件并无法被曝光机识别,需要事先转换为GDSII。由于DXF文件不是专用的曝光机图形文件,因为在设计时需要注意以下两点:(1)GDS文件的所有图形都必须是闭合的,因此用autocad设计图形,也必须是闭合的,否则无法进行格式转换;(2)Autocad的长度单位是无量纲单位,因此在转换成GDSII文件时,需要定义好dxf单位与实际长度的关系。
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 楼主| 发表于 2014-3-4 15:15:21 | 显示全部楼层
在光刻工艺中,不管是掩膜版的图案,还是电子束曝光图形,都需要事先经过软件进行设计
发表于 2014-3-5 10:39:43 | 显示全部楼层
问一下,你们那用的是那种数据格式?
 楼主| 发表于 2014-3-5 11:42:06 | 显示全部楼层
沐风 发表于 2014-3-5 10:39
问一下,你们那用的是那种数据格式?

你去光刻组问吧,他们这有一台制版机和电子束光刻,这两台机器可以直接接受数据,其余都是在别的地方做好光刻板,过来可以光刻。以他们的回复为准
发表于 2014-3-6 10:50:48 | 显示全部楼层
沐风 发表于 2014-3-5 10:39
问一下,你们那用的是那种数据格式?

L-edit画出来的版图文件是.tdb格式,要先转化成.gds格式,然后将.gds格式转化成.v30格式才能用电子束曝光机进行曝光。
 楼主| 发表于 2014-3-6 17:00:00 | 显示全部楼层
董小姐 发表于 2014-3-6 10:50
L-edit画出来的版图文件是.tdb格式,要先转化成.gds格式,然后将.gds格式转化成.v30格式才能用电子束曝光 ...

董小姐威武
发表于 2014-3-7 10:52:01 | 显示全部楼层
董小姐 发表于 2014-3-6 10:50
L-edit画出来的版图文件是.tdb格式,要先转化成.gds格式,然后将.gds格式转化成.v30格式才能用电子束曝光 ...

谢谢解答,顺便求交往
发表于 2014-3-10 08:57:57 | 显示全部楼层
{:soso_e128:}
发表于 2014-3-10 17:56:56 | 显示全部楼层
好专业{:soso_e179:}
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