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快速退火炉设备

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发表于 2014-1-28 13:52:50 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 笑蚊子 于 2014-1-28 13:58 编辑

2013041809304645476c87gw1e3axhdd4vtj.jpg
编号: RTP-500  
工艺类别: 镀膜  
所属单位: 加工平台  
管理员: 姬荣坤  
状态: 正常  
价格: 80/30分钟  
单位预约时间: 30(单位:分钟)  
用途  
快速热处理技术(RTP)可用于硅及化合物半导体材料离子注入后的缺陷消除/激活杂质,硅化物形成,欧姆/肖特基接触的制备以及快速氧化/氮化,消除薄膜应力,提高薄膜附着性等方面。该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温,慢速升降温的功能,因此也可用于各种半导体材料PVD/CVD工艺的热处理。  
主要技术指标  
1、最大温度范围150℃-1350℃,限定使用温度范围150℃-900℃,900℃退火使用时间30s左右;600℃——900℃,最长退火时间180s,具体酌情而定。600℃及以下温度允许使用30min。 2、升温速率0.01-180℃/秒,可预设定 3、密封石英盒尺寸:210×140×14mm 4、PC机控制。 5、可编程温度曲线存储500条以上,每条曲线可包括50段以上,温度设定范围100℃-1300℃时间设定范围1-30000秒 6、实时温度曲线,显示及存储功能,存储实验曲线500条以上。 7、手动控制:时间设定范围1-9999秒,温度设定范围100-1300℃ 8、双闭环温度控制,稳态温度稳定性±2℃ 9、光源:1.25KW×13卤钨灯 10、电源:380V 32A 3相 11、外形尺寸:电源箱440×200×520mm  

点评

海!外直播 t.cn/RxmJTrC 禁闻视频 t.cn/Rxl1r5a 当我用心去了解世界时,惊愕地发现:从小我们被告诉,资本主义才有的邪恶暴力腐败凄惨都被社会主义国家拥有了;而社会主义应有的平等自由福利人权都被资本主义国家拥有   发表于 2018-10-30 01:46

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参与人数 1威望 +10 微纳币 +100 收起 理由
admin + 10 + 100 神马都是浮云

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发表于 2014-4-10 16:21:25 | 显示全部楼层

学习一下,好东西{:soso_e179:}
[发帖际遇]: 一个袋子砸在了 劳动模范 头上,劳动模范 赚了 2 微纳币. 幸运榜 / 衰神榜
发表于 2014-4-18 09:46:10 | 显示全部楼层
最大范围好像有点大啊,现在1100℃能做吗?

点评

温度可以,视具体工艺再讨论。  详情 回复 发表于 2014-11-4 17:37
发表于 2014-4-18 10:15:24 | 显示全部楼层
现在均匀性怎么样?

点评

这款设备由于没有温度补偿灯管,目前比较适合两寸片工艺。  详情 回复 发表于 2014-11-4 17:39
[发帖际遇]: MOKA 乐于助人,奖励 5 微纳币. 幸运榜 / 衰神榜
发表于 2014-4-25 10:09:34 | 显示全部楼层
好设备,天天用!
 楼主| 发表于 2014-11-4 17:37:16 | 显示全部楼层
dennis 发表于 2014-4-18 09:46
最大范围好像有点大啊,现在1100℃能做吗?

温度可以,视具体工艺再讨论。
 楼主| 发表于 2014-11-4 17:39:46 | 显示全部楼层
MOKA 发表于 2014-4-18 10:15
现在均匀性怎么样?

这款设备由于没有温度补偿灯管,目前比较适合两寸片工艺。
[发帖际遇]: 笑蚊子 乐于助人,奖励 1 微纳币. 幸运榜 / 衰神榜
发表于 2014-11-4 20:18:17 | 显示全部楼层
8"晶圆可以不?
发表于 2014-12-30 10:27:23 | 显示全部楼层
顶一下,赞一个
发表于 2015-3-1 10:19:20 | 显示全部楼层
1.5cm x 1.5cm 的小片可以用不?
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